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秋毫R系列(R300/R500)激光干涉三维形貌量测仪,专为晶圆、微透镜、玻璃V槽、精密光学及材料检测设计。全场单次成像,亚纳米精度,效率远超传统扫描方案。支持粗糙度、台阶、膜厚、划伤等全面分析。


 激光设备3外观激光设备3外观

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秋毫R300激光干涉3D轮廓测量仪

秋毫R500激光干涉3D轮廓测量仪

一、产品核心价值

秋毫R系列 激光干涉3D轮廓测量仪(三维形貌量测仪)

独创全场单次成像技术,重新定义微纳检测效率

l 效率革命:单次成像获取全貌,检测速度较传统逐点扫描方案提升至少6倍

l 亚纳米精度:纵向分辨率高达0.5nm,精准捕捉纳米级形貌细节。

l 全能测量:支持三维形貌、粗糙度、台阶高度、膜厚、划伤、几何尺寸等全面分析。

l 材质广泛:适用于硅、石英(玻璃)、金属、薄膜等多种材料。

l 应用丰富:覆盖晶圆、微透镜、玻璃V槽、精密光学、医疗器械、刀具等检测需求。

l 晶圆级全检:支持大行程样品台,实现100%全检

二、产品描述

秋毫R系列(包括秋毫R300、秋毫R500)是由明察智新(深圳)科技有限公司自主研发的新一代激光干涉三维形貌量测仪(3D轮廓测量仪) 。它基于先进的激光干涉全场单次成像技术,专为满足光通信、半导体、精密光学、材料科学及先进制造领域对微纳结构表面高精度、高效率的检测需求而设计。

1. 工作原理与技术突破

传统光学轮廓仪(如白光干涉仪、共聚焦显微镜)依赖逐点或逐帧扫描来构建三维图像,其反复扫描”工作模式导致检测速度慢、效率低,难以适应现代制造业的批量全检要求。

秋毫R系列从根本上革新了这一流程。它采用激光干涉全场单次成像技术,通过一次曝光即可瞬间采集整个视场范围内的干涉图样,并经高速算法重建出样品表面的三维形貌。这一单次成像”机制,使得检测速度获得质的飞跃,将单次测量时间从传统的数秒至十数秒缩短至最快1秒,效率提升至少6倍,真正将高精度三维形貌检测从“抽检”时代带入“全检”时代。

2. 性能与精度参数

在实现高速检测的同时,秋毫R系列保持了行业领先的精度水平:

纳米级分辨率:系统光学横向分辨率达到0.5μm,纵向分辨率高达0.5nm,能够清晰分辨亚微米级划伤、纳米级面型偏差等极微小缺陷。

宽广的测量范围:单次测量最大纵向范围可达200μm,可覆盖从超光滑抛光表面(Ra < 0.1nm)到具有较大起伏的微纳结构(如微透镜阵列、蚀刻沟槽)等多种表面类型。

强大的分析功能:配套的专业分析软件,可一键式完成三维形貌、粗糙度、台阶高度、膜厚、划伤缺陷、几何尺寸等数十项参数的自动评定与输出。

3. 广泛的材料与产品适用性

秋毫R系列具备极佳的材料普适性,无需复杂的样品预处理,即可直接测量:

l 半导体与光通信材料晶圆、石英(玻璃) 晶圆、光刻胶、金属电极等。

l 精密光学材料:各种光学玻璃、晶体材料。

l 金属与薄膜材料:铜箔、铝箔、涂层、高分子薄膜等。

基于优异的材料兼容性,设备可应用于如下典型产品的检测:

l 晶圆类:硅光晶圆、化合物半导体晶圆的全局粗糙度与局部形貌。

l 微纳光学元件微透镜阵列、非球面/球面透镜、衍射光学元件(DOE)、玻璃V槽。

l 精密组件:超光滑光学镜面、MEMS微结构、半导体封装凸点。

l 工业品与医疗器械:精密刀具、心血管支架、金属冲压件、显示模组组件。

4. 核心价值与应用效益

l 提升良率:通过实现100%全检,彻底杜绝不良品流出,将潜在的良率风险与质量成本降至最低。

l 加速量产:检测效率与产线节拍完美匹配,消除质检瓶颈,助力产能快速爬坡。

l 优化工艺:详尽的检测数据与SPC统计分析功能,为研发与工艺工程师提供精准的数据反馈,加速工艺迭代优化。

总而言之,秋毫R系列不仅是一台高精度的测量设备,更是一套能为您的量产质量保驾护航、驱动效率变革的智能检测解决方案

三、产品核心优势

(一)效率革命:从抽检到全检的跨越

在微纳制造领域,效率是核心瓶颈。秋毫R系列采用全场单次成像技术,一次获取全视场三维数据,无需耗时扫描。以50,000颗(非)球面透镜量产检测为场景,实测数据对比如下:

方案类型

5万颗耗时

单颗速度

核心技术路线

激光干涉非扫描式方案(明察智新秋毫R系列)

~13小时

~1秒/颗

激光干涉单次成像

共聚焦扫描式方案

~55小时

3~5秒/颗

共聚焦逐点扫描

白光干涉扫描式方案

~83小时

5~7秒/颗

白光干涉逐帧扫描

相移干涉扫描式方案

~139小时

~10秒/颗

相移干涉逐帧扫描

数据来源:基于50,000颗(非)球面透镜量产实测对比

结论:使用秋毫R系列,您可以将产品的检测时间从数天缩短至半天,真正实现100%高精度质控,将潜在良率风险降至最低。

微透镜产品手册2

(二)亚纳米精度:高速与精密兼得

l 超高分辨率:光学横向分辨率达0.5μm,纵向分辨率达0.5nm,可清晰识别传统设备难以发现的微小缺陷(如纳米级面型偏差、亚微米级划伤)。

l 宽广范围:最大可测纵向范围达200μm,可覆盖从超光滑表面到复杂微纳结构的各类形貌。

(三)全方位的测量与分析能力

可一键式完成以下测量分析:

l 三维形貌:面型偏差(RMS)、曲率半径(ROC)、非球面K系数、矢高、平面度。

l 粗糙度:表面粗糙度(Sa/Sq/Sz/Sk等)。

l 台阶与膜厚:台阶高度、薄膜厚度。

l 缺陷检测:划伤、崩边、污染。

l 几何尺寸:沟槽深度、线宽、V槽角度等。

(四)智能化批量测量软件

l 自动化测量:支持矩阵式、全检点位导入等多种自动化测量模式,配合Mark点自动识别纠偏,可实现无人值守批量检测。

l 智能良率管理:自动生成良率分布Map图,支持自动分Bin,数据可导出为CSV/Excel/PDF格式,为工艺改进提供全面数据支撑。

(五)超值性价比与主动服务

l 在性能对标国际顶尖水平的同时,提供更具竞争力的价格

l 售后承诺24小时内线上响应,并提供主动的定期上门检测服务,保障设备长期稳定运行。

四、技术规格与性能参数

项目

参数

产品系列

秋毫R300、秋毫R500

测量技术

激光干涉全场单次成像

光学横向分辨率

0.5μm

纵向分辨率

0.5nm

最大可测纵向范围

200μm

样品台移动范围

300mm x 300mm x 20mm(手动/电动可选)

单次检测时间

最快1秒

主要应用

晶圆、微透镜阵列、玻璃V槽、精密光学元件、金属表面、涂层台阶、医疗器械、刀具等

适用材料

硅、石英(玻璃)、金属、薄膜等

支持分析功能

三维形貌、粗糙度、台阶高度、膜厚、划伤检测、几何尺寸

适用样品表面

平滑表面、复杂或非连续结构表面

可选物镜

10x、20x等标准物镜或高NA值物镜

注:以上数据来源于明察智新实验室。


五、应用领域与典型场景

精密光学

l 晶圆级光学:硅光晶圆、玻璃晶圆、石英晶圆的粗糙度与形貌测量。

l 微纳透镜:微透镜阵列、非球面/球面透镜的全面参数检测。

l 关键组件:玻璃V槽、光学镜面、衍射光栅的三维形貌与缺陷检测。

l 超光滑表面:超光滑镜面的粗糙度分析,玻璃划伤/崩边检测。

材料科学

l 金属材料:铜箔、铝箔、金属基板的表面形貌与粗糙度。

l 涂层与薄膜:涂层台阶高度、膜厚均匀性测量。

l 新型材料:陶瓷、聚合物等表面的微纳结构分析。

液晶显示

l 背光模组:导光板、扩散片的微结构检测。

l 显示模组:面板表面缺陷、划伤分析。

l OLED模组:有机发光层薄膜厚度与均匀性测量。

医疗器械与精密制造

l 心血管支架:支架表面形貌、涂层均匀性检测。

l 精密刀具:前刀面、后刀面磨损及轮廓测量。

l MEMS器件:微结构台阶高度、沟槽深度分析。

六、常见问题(FAQ)

1. 问:秋毫R系列与传统的白光干涉仪、共聚焦显微镜有何不同?
答: 最大的区别在于成像原理。传统设备需要逐点或逐帧扫描合成图像,速度慢。秋毫R系列采用激光干涉全场单次成像技术,一次拍照即可获取整个视场的3D数据,速度提升6倍以上,是实现100%全检的理想选择。

2. 问:秋毫R系列能测量哪些材料和产品?
答: 非常广泛。在材料方面,支持硅、石英(玻璃)、金属、薄膜等。在产品方面,可测量晶圆、微透镜阵列、玻璃V槽、光学镜面、金属表面、涂层台阶、心血管支架、精密刀具等几乎所有微纳结构表面。

3. 问:设备能自动完成批量检测吗?
答:完全可以。 设备软件支持全检点位一键导入,配合Mark点自动识别与样品台联动,可实现无人值守的全自动批量测量,并输出包含良率分布、关键参数统计的完整报告。

4. 问:贵司的售后服务如何?
答: 我们提供24小时内线上响应的技术支持,并安排主动的定期上门检测与维护服务,确保设备始终处于最佳工作状态。

七、获取报价/联系我们

明察智新(深圳)科技有限公司

地址:广东省深圳市南山区喷泉南街前海金融中心T2栋1303

微信:mczx1303

电话:0755-26609876

邮箱:MCZX@bevs.me

官网:http://www.bevs.me/


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